快科技9月8日音讯，EUV光刻机是制作5nm以下工艺的要害设备，相同重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣告国内首个把握EUV光刻胶核心技能的渠道启动了。 来自无锡政府网站的音讯，9月4日2025集成电路
快科技7月24日音讯，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻资料上获得重要开展，开宣告一种根据聚碲氧烷的新式光刻胶，为先进半导体制作中的要害资料供给
快科技7月2日音讯，据新闻媒体报道，2023年底ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，业界共同以为，High-NA EUV光刻技能将在先进芯片开发和下一代处理器的出产中发挥要害作用。 不过这种状况最
快科技6月29日音讯，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研制下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片工业做准备。 Jos Benschop表明，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研讨
快科技5月30日音讯，我们都知道，当下先进工艺（尤其是7nm以下），根本都依靠ASML的EUV极紫外光刻机。 依照传统认知，没有EUV就造不出先进工艺，那有无别的的方法呢。 前段时间，世界上就有一
快科技4月14日音讯，Intel上一任CEO帕特基辛格现已找到了新作业！自己亲身宣告，现已加盟xLight担任履行董事长。 xLight是一家半导体职业勇于探索商业模式的公司，主体事务室面向EUV极紫外光刻机，开发
快科技2月26日音讯，美光宣告，根据最新1纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片现已投产，功能、能效、密度等各项目标都大幅度的进步。 DRAM内存职业的节点工艺一向不标示详细数值，而是1a、1b、1c、
快科技2月26日音讯，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支撑High-NA也便是高孔径，Intel上一年抢先拿下了第一台，现在现已在俄勒冈州Fab D1晶圆厂装置布置了两台，
快科技1月24日音讯，据国内新闻媒体报道称，荷兰辅弼斯霍夫日前承受媒体采访时表明，在荷兰光刻机巨子阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府期望自行决定施行什么样的方针。 “美国拜登政府就约束
美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）宣告开宣告了一种名称为大孔径铥 （BAT） 激光器，旨在为极紫外 （EUV） 光刻技能的下一步开展奠定根底。 该激光器的功率号称是现在ASML EUV光刻机中运用
